抗磁性体填充—振动冲击耦合场致流变抛光高硅铝合金基片机理研究
批准号：
52475426
项目类别：
面上项目
资助金额：
48.00 万元
负责人：
谷岩
依托单位：
学科分类：
工程与材料科学部
结题年份：
--
批准年份：
2024
项目状态：
未结题
项目参与者：
谷岩
关键词：
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