Investigation on the complex interaction between particle and substrate in mechanical polishing of silica glass
Investigation on the complex interaction between particle and substrate in mechanical polishing of silica glass
复制标题
石英玻璃机械抛光中颗粒与基体复杂相互作用的研究
DOI：
10.1007/s00170-015-8017-y
复制
发表时间：
2016-08
影响因子：
3.4
通讯作者：
韩雪松
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
韩雪松
近年来，由于工业上对光学元件加工精度和表面质量要求的不断提高，硅酸盐玻璃的加工技术得到了迅速发展，而硬脆材料的特性使得
Machining technology about silicate glass has been developed very fast over recent years due to the growing industrial demand of higher machining accuracy and better surface quality of optical elements while the nature of hard and brittle materials makes
登录
查看更多内容
影响因子：
3.5
作者：
G. Fuxi
通讯作者：
G. Fuxi
DOI：
10.1117/12.47838
发表时间：
1991-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Hans F. Morian
通讯作者：
Hans F. Morian
DOI：
10.1016/0030-3992(85)90127-6
发表时间：
1983
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
I. Fanderlik
通讯作者：
I. Fanderlik
影响因子：
1.6
作者：
BELL, RJ;DEAN, P
通讯作者：
DEAN, P
影响因子：
1.9
作者：
J. Bennett;J. J. Shaffer-J.;Y. Shibano;Y. Namba
通讯作者：
J. Bennett;J. J. Shaffer-J.;Y. Shibano;Y. Namba