Room-temperature epitaxial growth of ferromagnetic Fe_3Si films on Si(III) by facing target direct-current sputtering
Room-temperature epitaxial growth of ferromagnetic Fe_3Si films on Si(III) by facing target direct-current sputtering
复制标题
面向靶材直流溅射在Si(III)上室温外延生长铁磁Fe_3Si薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T.Yoshitake;et al.
铁硅合金中的自旋密度分布
DOI：
10.1088/0305-4608/2/2/026
发表时间：
1972
期刊：
Journal of Physics F: Metal Physics
影响因子：
--
作者：
J. Moss;P. Brown
通讯作者：
P. Brown
影响因子：
1.5
作者：
T. Yoshitake;D. Nakagauchi;K. Nagayama
通讯作者：
K. Nagayama