Planar bit patterned media fabricated by ion beam irradiation (Invited)
Planar bit patterned media fabricated by ion beam irradiation (Invited)
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离子束辐照制备平面位图介质（特邀）
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Tsunashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kato;D. Oshima;M. Tanimoto;Q. Xu;S. Iwata;S. Tsunashima
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