Acceptor-oxygen defects in silicon: The electronic properties of centers formed by boron, gallium, indium, and aluminum interactions with the oxygen dimer

Acceptor-oxygen defects in silicon: The electronic properties of centers formed by boron, gallium, indium, and aluminum interactions with the oxygen dimer
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硅中的受主氧缺陷:硼、镓、铟和铝与氧二聚体相互作用形成的中心的电子特性

DOI:
10.1063/5.0076980
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发表时间:
2021
影响因子:
3.2
通讯作者:
De Guzman J
De Guzman J
中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
--
作者:
De Guzman J

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DOI: 10.1002/pssa.201900315
发表时间: 2019
期刊: physica status solidi (a)
影响因子: --
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通讯作者: A. Peaker