Growth and thermal stability of (V,Al)_2C_x thin films

Growth and thermal stability of (V,Al)_2C_x thin films
复制标题

(V,Al)_2C_x薄膜的生长和热稳定性

DOI:
10.1557/jmr.2012.202
复制
发表时间:
2012
影响因子:
2.7
通讯作者:
Schneider
Schneider
中科院分区:
材料科学4区
文献类型:
--
作者:
Iskander;to Baben;Takahashi;Emmerlich;Polzer;Polcik;Schneider

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: --
发表时间: 1996
期刊:
影响因子: --
作者:
L. Tang;D. Laughlin
通讯作者: D. Laughlin
DOI: 10.1002/jemt.20591
发表时间: 2008-08-01
影响因子: 2.5
作者:
Mitchell, D. R. G.
通讯作者: Mitchell, D. R. G.
VA族过渡金属碳化物
DOI: --
发表时间: 1995
期刊:
影响因子: --
作者:
A. Cottrell
通讯作者: A. Cottrell
具有 V2AlC 中间层的 NiAl 涂层蓝宝石光纤的强度退化
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者:
T. Gebhardt;D. Hajas;M. Scholz;B. Hallstedt;B. Cappi;J. Song;R. Telle;J. Schneider
通讯作者: J. Schneider