First conductive atomic force microscopy investigation on the oxide-film removal mechanism by chloride fluxes in aluminum brazing
First conductive atomic force microscopy investigation on the oxide-film removal mechanism by chloride fluxes in aluminum brazing
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首次导电原子力显微镜研究铝钎焊中氯化物助熔剂去除氧化膜的机制
DOI：
10.1016/j.scriptamat.2017.05.020
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发表时间：
2017-09
影响因子：
6
通讯作者：
Liu Lihua
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhu Ziang;Chen Yiqing;Luo Alan A.;Liu Lihua
本文首次采用导电原子力显微镜（CAFM）技术，通过测量铝样品表面的电导率，获得了氧化膜在熔敷过程中被去除的直接证据。CAFM的结果显示，助焊剂中的F−离子使氧化膜松动，在氧化膜上形成微裂纹。随后，Zn 2+离子通过裂纹渗透到膜中并与铝基板发生化学反应，破坏了氧化层与铝基板之间的结合。这些重要发现为开发工业应用的无氯环保焊剂铺平了道路。
In the paper, conductive atomic force microscopy (CAFM) technique was used, for the first time, to obtain direct evidence of oxide-film removal during fluxing,viameasuring the electrical conductivity of aluminum sample surfaces. The CAFM results show that the F−ions from the flux loosened the film, forming micro cracks on the oxide film. Subsequently, the Zn2 +ions permeated into the film through the cracks and chemically reacted with the aluminum substrate, destroying the bonding between the oxide layer and the aluminum substrate. These important findings pave the way for developing Cl-free environment-friendly fluxes for industrial applications.
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影响因子：
3
作者：
Niu, Zhiwei;Huang, Jihua;Zhao, Xingke
通讯作者：
Zhao, Xingke
DOI：
10.1007/s11663-014-0140-x
发表时间：
2014-07
期刊：
Metallurgical and Materials Transactions B
影响因子：
--
作者：
H. Zhang;Yiqing Chen;A. Luo
通讯作者：
H. Zhang;Yiqing Chen;A. Luo
影响因子：
2.3
作者：
Z. Qiyun
通讯作者：
Z. Qiyun
影响因子：
4
作者：
MURRELL, MP;WELLAND, ME;VERHAVERBEKE, S
通讯作者：
VERHAVERBEKE, S
影响因子：
2.1
作者：
Jeurgens, LPH;Sloof, WG;Mittemeijer, EJ
通讯作者：
Mittemeijer, EJ