Beschichtung von gasgetragenen Nanopartikeln mit SiO2 mithilfe eines plasma-unterstützten CVD-Prozesses bei Umgebungsbedingungen
Beschichtung von gasgetragenen Nanopartikeln mit SiO2 mithilfe eines plasma-unterstützten CVD-Prozesses bei Umgebungsbedingungen
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在环境条件下使用等离子体辅助 CVD 工艺用 SiO2 涂覆气载纳米颗粒
DOI：
10.1002/cite.201700109
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发表时间：
2018
影响因子：
1.9
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
介绍了一种等离子体辅助气溶胶工艺，该工艺允许在环境温度下用氧化硅连续涂覆颗粒。施加介质阻挡放电等离子体以产生不同的反应性物种。使用原硅酸四乙酯作为前体。不需要高温来进行涂覆，因此即使是温度敏感的材料也可以进行涂覆。另一个优点是该过程独立于粒子源。在不同的颗粒几何形状和材料（例如金属、盐和聚合物）上证明了成功的涂层，并显示了涂层厚度对颗粒表面积的依赖性。此外，颗粒数浓度沿着涂覆反应器的变化主要由附聚引起。
A plasma‐assisted aerosol process is presented, which allows the continuous coating of particles with silicon oxide at ambient temperature. A dielectric barrier discharge plasma is applied to produce different reactive species. Tetraethyl orthosilicate is used as precursor. No elevated temperatures are necessary to perform the coating so that even temperature‐sensitive materials can be coated. Another advantage is the independence of the process from the particle source. The successful coating is demonstrated on different particle geometries and materials such as metals, salts and polymers and the dependence of the coating thickness on the particle surface area is shown. Furthermore, the change in particle number concentration along the coating reactor is primarily caused by agglomeration.
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DOI：
10.3390/nano6050091
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Borra JP
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