Yasushi Sasajima et al.: "New approach for a computer simulation of the vacuum deposition process" Appl.Surf.Sci.
Yasushi Sasajima et al.: "New approach for a computer simulation of the vacuum deposition process" Appl.Surf.Sci.
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Yasushi Sasajima 等人：“真空沉积过程计算机模拟的新方法”Appl.Surf.Sci。
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
DOI：
10.1051/jphys:01988004902024900
发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
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作者：
F. Lançon;L. Billard
通讯作者：
L. Billard
准晶体：最先进的技术
影响因子：
3.7
作者：
D. DiVincenzo;P. Steinhardt
通讯作者：
P. Steinhardt