Photochemistry of DNA using 193 nm excimer laser radiation.
Photochemistry of DNA using 193 nm excimer laser radiation.
复制标题
使用 193 nm 准分子激光辐射进行 DNA 光化学。
DOI：
10.1111/j.1751-1097.1990.tb01961.x
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发表时间：
1990
影响因子：
3.3
通讯作者：
Buckley,LA
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kochevar,IE;Buckley,LA
对 193 nm 辐射诱导的双链 DNA 中的光产物进行了研究。将缓冲水溶液中的双链超螺旋 pBR322 DNA 暴露于来自 ArF 准分子激光器的不同能量密度的 193 nm 辐射下。环丁基嘧啶二聚体、直链断裂和碱不稳定位点形成的量子产率是通过分别用藤黄微球菌二聚体特异性核酸内切酶处理、不处理或用碱和热处理后超螺旋（I型）DNA向松弛（II型）DNA的转化来计算的。嘧啶二聚体的量子产率为 1.65 (± 0.03) × 10−3，直链断裂的量子产率为 9.4 (± 3.2) × 10−5，碱不稳定位点的量子产率为 9.6 (± 3.6) × 10−5。嘧啶二聚体和弗兰克链断裂的量子产率与 Tris 缓冲液和 EDTA 浓度无关。直链断裂和碱不稳定位点的产率不受 10mM 甘露醇的影响。 193 nm 辐射诱导的这些 DNA 光产物的相对量子产率与 254 nm 辐射产生的相对量子产率明显不同。
Photoproducts in double‐stranded DNA induced by 193 nm radiation have been investigated. Double‐stranded, supercoiled pBR322 DNA in buffered aqueous solution was exposed to varying fluences of 193 nm radiation from an ArF excimer laser. The quantum yields for formation of cyclobutylpyrimidine dimers, frank strand breaks and alkali labile sites were calculated from the conversion of supercoiled (Form I) DNA to relaxed (Form II) DNA after treatment withMicrococcus luteusdimer‐specific endonuclease, no treatment, or treatment with alkali and heat, respectively. The quantum yields were 1.65 (± 0.03) × 10−3for pyrimidine dimers, 9.4 (± 3.2) × 10−5for frank strand breaks and 9.6 (± 3.6) × 10−5for alkali labile sites. The quantum yields for pyrimidine dimers and frank strand breaks were independent of Tris buffer and EDTA concentrations. The yields of frank strand breaks and alkali labile sites were not affected by 10mMmannitol. The relative quantum yields for these DNA photoproducts induced by 193 nm radiation differed markedly from those produced by 254 nm radiation.
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