Measurement setup for the determination of the nonlinear refractive index of thin films with high nonlinearity
Measurement setup for the determination of the nonlinear refractive index of thin films with high nonlinearity
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用于测定高非线性薄膜非线性折射率的测量装置
DOI：
10.1117/12.2500341
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
L. Jensen
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Steinecke;T. Kellermann;M. Jupé;D. Ristau;L. Jensen
利用多层薄膜中的非线性效应可以实现具有新功能的光学器件，如全光开关和频率转换。在这方面的贡献，一个改进的干涉测量装置的非线性折射率在介质基板和沉积单层。该装置是基于在被测样品中的自聚焦引起的波前变形。此外，测量结果的高度非线性材料，铟锡氧化物（ITO）的材料功率处理能力，并从其他材料的值进行比较。
The exploitation of nonlinear effects in multi-layer thin films allows for optics with novel functions, such as all- optical switching and frequency conversion. In this contribution, an improved interferometric setup for the measurement of the nonlinear refractive index in dielectric substrates and deposited single layers is presented. The setup is based on the wave front deformation caused by the self-focusing in the measured samples. Additionally, measurement results for a highly nonlinear material, indium-tin-oxide (ITO) are presented with respect to the materials power handling capabilities and compared to values from other materials.
对“使用莫尔偏转测量法对材料进行非线性折射测量”的评论
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Vaziri
通讯作者：
M. Vaziri
DOI：
10.1117/12.2281127
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Steinecke;K. Kiedrowski;M. Jupé;D. Ristau
通讯作者：
D. Ristau
多层介电涂层中的克尔效应。
影响因子：
3.8
作者：
E. Fedulova;M. Trubetskov;T. Amotchkina;K. Fritsch;P. Baum;O. Pronin;V. Pervak
通讯作者：
V. Pervak