HIGH-THORGHPUT NANO-METAL PATTERNING PROCESS USING UV NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND ELECTRODEPOSITION
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使用紫外纳米压印光刻和电镀的高通量纳米金属图案化工艺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shuichi Shoji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hidetoshi Shinohara;Jun Mizuno;Shuichi Shoji
实现52.5 Gb/in2垂直记录
影响因子：
2.7
作者：
H. Takano;Y. Nishida;A. Kuroda;H. Sawaguchi;Y. Hosoe;T. Kawabe;H. Aoi;H. Muraoka;Y. Nakamura;K. Ouchi
通讯作者：
K. Ouchi
几种光固化树脂的UV-NIL应用可行性研究
影响因子：
0.8
作者：
N. Sakai;J. Taniguchi;K. Kawaguchi;M. Ohtaguchi;Tamano Hirasawa
通讯作者：
Tamano Hirasawa