TEM analysis on nanovoid formation in annealed amorphous oxides
TEM analysis on nanovoid formation in annealed amorphous oxides
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退火非晶氧化物中纳米空隙形成的 TEM 分析
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ryusuke Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
阪本辰顕;福留裕太(学部生);仲井清眞;小林千悟;Ryusuke Nakamura
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影响因子：
56.9
作者：
Johnson, SA;Ollivier, PJ;Mallouk, TE
通讯作者：
Mallouk, TE
真空加热非晶 WO3 薄膜的特征晶体生长
影响因子：
1.8
作者：
Y. Kimura;C. Kaito
通讯作者：
C. Kaito
γAl2O3 微孔形成机制
DOI：
10.1016/0039-6028(95)90029-2
发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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作者：
L. J. Álvarez;Luis Eduardo León;J. Sanz;M. Capitán;J. Odriozola
通讯作者：
J. Odriozola
溅射沉积钨氧化物薄膜中的阳离子插层
DOI：
10.1103/physrevb.58.11015
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
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作者：
M. S. Mattsson
通讯作者：
M. S. Mattsson
通过空位吸收过程实现 FeAl 单晶的纳米级表面自图案化
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Applied Physics Letters 89・7
影响因子：
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作者：
吉見 享祐;Kyosuke Yoshimi;吉見享祐;K.Yoshimi et al.;吉見 享祐;K.Yoshimi;K.Yoshimi et al.;Kyosuke Yoshimi;Kyosuke Yoshimi;K.Yoshimi et al.
通讯作者：
K.Yoshimi et al.