Dominant growth of higher manganese silicide film on Si substrate by introducing a Si oxide capping layer
Dominant growth of higher manganese silicide film on Si substrate by introducing a Si oxide capping layer
复制标题
通过引入氧化硅覆盖层在硅衬底上主要生长高硅化锰薄膜
DOI：
10.1016/j.allcom.2017.10.124
复制
发表时间：
2018-04
影响因子：
6.2
通讯作者：
Cao Guoqin
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cao Shuaiqi;Wang Qingjie;Hu Junhua;Fu Zhenya;Bai Kuifeng;Shao Guosheng;Cao Guoqin
登录
查看更多内容
影响因子：
1.7
作者：
Junhua Hu;Akihiko Kato;T. Sadoh;Y. Maeda;K. Galkin;T. V. Turchin;H. Tatsuoka
通讯作者：
Junhua Hu;Akihiko Kato;T. Sadoh;Y. Maeda;K. Galkin;T. V. Turchin;H. Tatsuoka
DOI：
10.1002/pssa.200824246
发表时间：
2009-02
期刊：
physica status solidi (a)
影响因子：
--
作者：
Junhua Hu;Takanori Kurokawa;T. Suemasu;S. Takahara;M. Itakura;H. Tatsuoka
通讯作者：
Junhua Hu;Takanori Kurokawa;T. Suemasu;S. Takahara;M. Itakura;H. Tatsuoka
影响因子：
4
作者：
M. Rebien;W. Henrion;H. Angermann;S. Teichert
通讯作者：
M. Rebien;W. Henrion;H. Angermann;S. Teichert
影响因子：
1.8
作者：
S. Teichert;S. Schwendler;D. Sarkar;A. Mogilatenko;M. Falke;G. Beddies;C. Kleint;H. Hinneberg
通讯作者：
S. Teichert;S. Schwendler;D. Sarkar;A. Mogilatenko;M. Falke;G. Beddies;C. Kleint;H. Hinneberg
影响因子：
1.8
作者：
Dr.-Ing.B. Rumpf
通讯作者：
Dr.-Ing.B. Rumpf