Simulations of chemical vapor deposition diamond film growth using a kinetic Monte Carlo model and two-dimensional models of microwave plasma and hot filament chemical vapor deposition reactors
Simulations of chemical vapor deposition diamond film growth using a kinetic Monte Carlo model and two-dimensional models of microwave plasma and hot filament chemical vapor deposition reactors
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使用动力学蒙特卡罗模型和微波等离子体和热丝化学气相沉积反应器的二维模型模拟化学气相沉积金刚石薄膜的生长
DOI：
10.1063/1.3516498
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发表时间：
2010
影响因子：
3.2
通讯作者：
May P
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
May P
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影响因子：
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P. May;Y. Mankelevich
通讯作者：
P. May;Y. Mankelevich
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通讯作者：
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通讯作者：
A. Bogaerts