Mechanism of anisotropic etching of diamond (111) surfaces by hydrogen plasma treatment
Mechanism of anisotropic etching of diamond (111) surfaces by hydrogen plasma treatment
复制标题
氢等离子体处理金刚石（111）表面各向异性刻蚀机理
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Inokuma
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Kuroshima;N. Tokuda;T. Makino;S. Yamasaki;T. Inokuma
(001) 取向金刚石 p–i–n 结的深紫外光高效激子发射
影响因子：
1.5
作者：
T. Makino;N. Tokuda;H. Kato;M. Ogura;H. Watanabe;S. Ri;S. Yamasaki;H. Okushi
通讯作者：
H. Okushi
影响因子：
3.7
作者：
Liao, Meiyong;Koide, Yasuo;Kleider, Jean-Paul
通讯作者：
Kleider, Jean-Paul