Surface coating of small SiO2 particles with TiO_2 thin layer by using barrel-sputtering system.
Surface coating of small SiO2 particles with TiO_2 thin layer by using barrel-sputtering system.
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利用桶溅射系统在小SiO2颗粒表面涂覆TiO_2薄层。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Satoshi Akamaru et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.
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通过等离子体 CVD 封装磨料颗粒
DOI：
10.1016/s0257-8972(03)00200-7
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Karches;M. Morstein;P. Rohr
通讯作者：
P. Rohr
DOI：
10.1016/0168-583x(94)95200-0
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Müller;W. Ensinger;G. Frech;G. Wolf
通讯作者：
G. Wolf
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影响因子：
1.5
作者：
T. Toyoda;H. Kawano;Q. Shen;A. Kotera;M. Ohmori
通讯作者：
M. Ohmori
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DOI：
10.1016/s0168-583x(98)00173-6
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
--
作者：
W. Ensinger;H. Müller
通讯作者：
H. Müller
影响因子：
6.2
作者：
Abe, T;Akamaru, S;Honda, Y
通讯作者：
Honda, Y