Band alignments at native oxide/BaSi2 and amorphous-Si/BaSi2 interfaces measured by hard x-ray photoelectron spectroscopy

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通过硬 X 射线光电子能谱测量原生氧化物/BaSi2 和非晶硅/BaSi2 界面的能带排列

DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Takabe
R. Takabe
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Kohjiro Satoshi;Hirayama Fuminori;R. Takabe

文献摘要

参考文献

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Investigation of grain boundaries in BaSi2 epitaxial films on Si(111) substrates using transmission electron microscopy and electron-beam-induced current technique
DOI： 10.1016/j.jcrysgro.2012.03.044
发表时间： 2012-06-01
期刊： JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
影响因子： 1.8
作者：
Baba, Masakazu;Toh, Katsuaki;Suemasu, Takashi
通讯作者： Suemasu, Takashi