Design and fabrication of far ultraviolet filters based on π-multilayer technology in high-k materials.
Design and fabrication of far ultraviolet filters based on π-multilayer technology in high-k materials.
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DOI：
10.1038/srep08503
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发表时间：
2015-02-17
影响因子：
4.6
通讯作者：
Li YP
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang XD;Chen B;Wang HF;He F;Zheng X;He LP;Chen B;Liu SJ;Cui ZX;Yang XH;Li YP
将π多层膜技术的应用扩展到高消光系数材料，并将其引入金属介质滤波器的设计中。金属材料在远紫外波段通常具有很高的消光系数，因此金属材料的光学厚度应小于介质材料的光学厚度。设计并制备了一种9层非周期Al/MgF 2多层膜的宽带FUV滤光片，在140-180 nm波段具有高反射率，在120-137 nm和181-220 nm波段具有低反射率。
Application of π-multilayer technology is extended to high extinction coefficient materials, which is introduced into metal-dielectric filter design. Metal materials often have high extinction coefficients in far ultraviolet (FUV) region, so optical thickness of metal materials should be smaller than that of the dielectric material. A broadband FUV filter of 9-layer non-periodic Al/MgF2 multilayer was successfully designed and fabricated and it shows high reflectance in 140–180 nm, suppressed reflectance in 120–137 nm and 181–220 nm.
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