Atomic step patterning in nanoimprint lithography: Molecular dynamics study
Atomic step patterning in nanoimprint lithography: Molecular dynamics study
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纳米压印光刻中的原子步骤图案化：分子动力学研究
DOI：
10.1116/1.3659712
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发表时间：
2011
影响因子：
1.4
通讯作者：
Y. Hirai
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Tada;M. Yasuda;G. Tan;Y. Miyake;H. Kawata;M. Yoshimoto;Y. Hirai
采用分子动力学模拟方法研究了纳米压印光刻中原子级台阶模具的成形性。对玻璃的表面高度进行快速傅立叶变换分析，以确认原子台阶图案的周期性。从分析中，玻璃纳米压印光刻的分辨率被发现是0.2 nm的原子级阶梯模具。该理论分辨率与实验分辨率一致。
Atomic-scale formability of nanoimprint lithography using an atomically stepped mold is investigated in a molecular dynamics simulation for inorganic SiO2 glass material. Fast Fourier transformation analysis of the surface height of the glass is performed to confirm the periodicity of the atomic-step pattern. From the analysis, the resolution of glass nanoimprint lithography is found to be 0.2 nm for the atomically stepped mold. This theoretical resolution agrees with the experimental resolution.
影响因子：
1.4
作者：
M. Okinaka;K. Tsukagoshi;Y. Aoyagi
通讯作者：
M. Okinaka;K. Tsukagoshi;Y. Aoyagi
使用自组织氧化物模具通过纳米压印在玻璃表面形成纳米条纹图案
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
Materials Science and、Engineering B (in press)
影响因子：
--
作者：
Y. Akita;Y. Kato;M. Hosaka;Y. Ono. S. Suzuki;A. Nakaiima;M. Yoshimoto
通讯作者：
M. Yoshimoto