Thermal Stability of SiBCN Films
Thermal Stability of SiBCN Films
复制标题
SiBCN 薄膜的热稳定性
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M Ikeyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N Hayashi;J Choi;T Kumagai;T Kato;M Kawaguchi;S Nakao;M Ikeyama
影响因子：
2.1
作者：
E. Dekempeneer;J. Meneve;S. Kuypers;J. Smeets
通讯作者：
J. Smeets
使用 1-(三氯甲硅烷基)-1-(二氯硼基)乙烷作为单源前体在 Si/B/C/N 系统中合成极其稳定的陶瓷
DOI：
10.1007/s100190050085
发表时间：
1999
期刊：
Material Research Innovations
影响因子：
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作者：
H. Jüngermann;M. Jansen
通讯作者：
M. Jansen
DOI：
10.1209/epl/i2006-10283-5
发表时间：
2006-11-01
期刊：
EUROPHYSICS LETTERS
影响因子：
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作者：
Houska, J.;Vlcek, J.;McKenzie, D. R.
通讯作者：
McKenzie, D. R.