Domain structures of ferroelectric thin film controlled by oxidizing atmosphere

Domain structures of ferroelectric thin film controlled by oxidizing atmosphere
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氧化气氛控制的铁电薄膜的畴结构

DOI:
10.1063/1.3646387
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发表时间:
2011-10
影响因子:
4
通讯作者:
Ma, D. C
Ma, D. C
中科院分区:
物理与天体物理2区
文献类型:
--
作者:
Wang, Biao;Zheng, Yue;Woo, C. H;Ma, D. C

文献摘要

参考文献

被引文献

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