Non-photolithographic pattern transfer for fabricating arrayed three-dimensional microstructures by chemical anisotropic etching

Non-photolithographic pattern transfer for fabricating arrayed three-dimensional microstructures by chemical anisotropic etching
复制标题

通过化学各向异性蚀刻制造阵列三维微结构的非光刻图案转移

DOI:
--
复制
发表时间:
2004
期刊:
Sensors and Actuators A116
影响因子:
--
通讯作者:
K.Sato
K.Sato
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
M.Shikida;M.Odagaki;N.Todoroki;M.Ando;Y.Ishihara;T.Ando;K.Sato

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: 10.1016/s0924-4247(02)00017-1
发表时间: 2002-04-01
影响因子: 4.6
作者:
Shikida, M;Nanbara, K;Asaumi, K
通讯作者: Asaumi, K