XRD Tensile Test Technique to Measure Mechanical Properties of Micron-Thick Si and TiN Films
XRD Tensile Test Technique to Measure Mechanical Properties of Micron-Thick Si and TiN Films
复制标题
测量微米厚硅和氮化钛薄膜机械性能的 XRD 拉伸测试技术
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keiji Koterazawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takahiro Namazu;Shozo Inoue;Daisuke Ano;Keiji Koterazawa
拉伸试验作为测定薄硬涂层杨氏模量的方法
影响因子：
5.4
作者：
P. Hollman;M. Larsson;P. Hedenqvist;S. Hogmark
通讯作者：
S. Hogmark
分压对 r.f. 内应力和晶体结构的影响
影响因子：
2.1
作者：
S. Inoue;T. Ohba;H. Takata;K. Koterazawa
通讯作者：
K. Koterazawa