Structure Change of Poly(Vinylidene Fluoride-Trifluoroethylene) Ferroelectric Thin Films on Different Electrodes
Structure Change of Poly(Vinylidene Fluoride-Trifluoroethylene) Ferroelectric Thin Films on Different Electrodes
复制标题
不同电极上聚偏氟乙烯-三氟乙烯铁电薄膜的结构变化
DOI：
10.1080/00150193.2010.483198
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发表时间：
2010-10
期刊：
影响因子：
0.8
通讯作者：
Liu, P. F. , Meng, X. J. , Wang, J. L. , Chu, J. H
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Liu, P. F. , Meng, X. J. , Wang, J. L. , Chu, J. H
本文研究了用LB法在硅衬底上生长的65 nm厚的聚偏氟乙烯-三氟乙烯铁电聚合物P（VDF-TrFE）薄膜。两种不同的底部电极，即Al和LaNiO 3（LNO）的效果是
In this work we studied 65nm-thick poly(vinylidene fluoride-trifluoroethylene) ferroelectric polymers P(VDF-TrFE) films grown by Langmuir-Blodgett (LB) onto silicon substrates. The effects of two different bottom electrodes namely Al and LaNiO3 (LNO) are
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