E.C.Lee and Y.Kimura: "A New Formation Process of Poly(phenylsilsesquioxane) in the Hydrolytic Polycondensation of Trichlorophenylsiane:Isolation of Low Molecular Weight Hydrolysates to Form High Molecular Weight Polymers at Mild Reaction Conditions." Bul

E.C.Lee and Y.Kimura: "A New Formation Process of Poly(phenylsilsesquioxane) in the Hydrolytic Polycondensation of Trichlorophenylsiane:Isolation of Low Molecular Weight Hydrolysates to Form High Molecular Weight Polymers at Mild Reaction Conditions." Bul
复制标题

E.C.Lee 和 Y.Kimura:“三氯苯基硅烷水解缩聚中聚(苯基倍半硅氧烷)的新形成工艺:在温和反应条件下分离低分子量水解产物以形成高分子量聚合物。”

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

反应有机官能三烷氧基硅烷的尺寸排阻色谱法和尺寸排阻色谱法/傅里叶变换红外光谱法
DOI: 10.1021/ac00279a065
发表时间: 1985
影响因子: 7.4
作者:
James D. Miller;H. Ishida
通讯作者: H. Ishida
DOI: 10.1295/koron.53.193
发表时间: 1996
期刊: Kobunshi Ronbunshu
影响因子: --
作者:
Hirofumi Nishida;Hideki Yamane;Yoshiharu Kimura;Toshio Kitao
通讯作者: Toshio Kitao
含有苯基和二苯基硅氧基单元的聚合产物的分子结构
DOI: 10.1002/pola.1995.080330106
发表时间: 1995
期刊: Journal of Polymer Science Part A
影响因子: --
作者:
S. Hayashida;S. Imamura
通讯作者: S. Imamura
可溶性聚苯基倍半硅氧烷的制备
DOI: 10.1246/nikkashi.1974.108
发表时间: 1974
期刊: Nippon Kagaku Kaishi
影响因子: --
作者:
T. Takiguchi;Eri Fujikawa;Yasushi Yamamoto;Masayoshi Ueda
通讯作者: Masayoshi Ueda
适用于微光刻抗蚀剂材料的碱溶性有机硅树脂的合成
DOI: 10.1016/0032-3861(90)90403-l
发表时间: 1990
期刊: Polymer
影响因子: 4.6
作者:
H. Ban;A. Tanaka;Y. Kawai;S. Imamura
通讯作者: S. Imamura