NEXAFS によるアモルファス窒化炭素薄膜の可視光照射下における局所構造解析
NEXAFS によるアモルファス窒化炭素薄膜の可視光照射下における局所構造解析
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使用 NEXAFS 分析可见光照射下非晶氮化碳薄膜的局部结构
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
神田 一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
下野 眞裕;青野 祐美，森田 恭司;井上 祐;神田 一
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机械研磨六方氮化硼在硼 K 壳层激发下增强的共振 X 射线发射。
影响因子：
8.6
作者：
Muramatsu;Oshima;Kawai;Tadokoro;Adachi;Agui;Shin;Kato;Kohzuki;Motoyama
通讯作者：
Motoyama
散射角对h-BN近边缘结构能量损失的影响
DOI：
10.2320/matertrans1989.41.555
发表时间：
2000
期刊：
Materials Transactions Jim
影响因子：
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作者：
Yoon;Y. Murakami;D. Shindo;T. Oikawa
通讯作者：
T. Oikawa
使用近边缘 X 射线吸收精细结构测量氮化硼粉末和薄膜的形态和键合
DOI：
10.1116/1.579194
发表时间：
1994
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
L. Terminello;A. Chaiken;D. Lapiano‐Smith;G. Doll;T. Sato
通讯作者：
T. Sato
影响因子：
4.4
作者：
Oji, H;Mitsumoto, R;Kosugi, N
通讯作者：
Kosugi, N
影响因子：
--
作者：
FRANCIS, JT;HITCHCOCK, AP
通讯作者：
HITCHCOCK, AP