Arrhenius and non Arrhenius behaviour during anisotropic etching

Arrhenius and non Arrhenius behaviour during anisotropic etching
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各向异性蚀刻过程中的阿伦尼乌斯和非阿伦尼乌斯行为

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
Proc.the 4^<th> Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, May 26-28,Montreal 1
影响因子:
--
通讯作者:
K.Sato
K.Sato
中科院分区:
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文献类型:
--
作者:
M.A.Gosalvez;R.M.Nieminen;K.Sato

文献摘要

参考文献

被引文献

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发表时间: 1996
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作者:
I. Oppenheim
通讯作者: I. Oppenheim
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发表时间: 1960
期刊: IRE Transactions on Military Electronics
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W. Glendinning
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