UV laser-induced degradation in CsLiB_6O_<10>
UV laser-induced degradation in CsLiB_6O_<10>
复制标题
紫外激光诱导 CsLiB_6O_<10> 的降解
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Y. Mori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Takachiho;M. Yoshimura;K. Masuda;Y. Takahashi;M. Imade;T. Sasaki;and Y. Mori
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影响因子：
3.2
作者：
V. Kumar;R. K. Thareja
通讯作者：
R. K. Thareja
165-300 nm 之间的光谱辐射率校准：实验室间比较。
影响因子：
1.9
作者：
J. Bridges;W. Ott;E. Pitz;A. Schulz;D. Einfeld;D. Stuck
通讯作者：
D. Stuck
DOI：
10.1088/0022-3735/13/8/016
发表时间：
1980-01-01
期刊：
JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS
影响因子：
--
作者：
KEY, PJ;PRESTON, RC
通讯作者：
PRESTON, RC
214 nm 处 NIST SURF 和氩气微弧辐照度标准的比较。
影响因子：
1.9
作者：
J. Lean;H. J. Kostkowski;R. D. Saunders;L. R. Hughey
通讯作者：
L. R. Hughey
影响因子：
2.4
作者：
J. Bridges;A. Migdall
通讯作者：
A. Migdall