Development of an Evanescent Light Measurement System for Si Wafer Microdefect Detection
Development of an Evanescent Light Measurement System for Si Wafer Microdefect Detection
复制标题
开发用于硅晶片微缺陷检测的倏逝光测量系统
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Takahashi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S.Takagi;T.Mizuno;T.Tezuka;N.Sugiyama;S.Nakaharai;T.Numata;J.Kogaand.K.Uchida;S.Takahashi
利用激光散射缺陷图案检测和辨别硅片表面缺陷的在线测量方法
DOI：
--
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
--
作者：
S. Takahashi;T. Miyoshi;Y. Takaya;Katsumasa Saito
通讯作者：
Katsumasa Saito
硅晶圆激光扫描中的粒度不确定性 Aeronca 晶圆检测系统的校准/评估 150
影响因子：
3.9
作者：
B. Locke;R. Donovan
通讯作者：
R. Donovan