Analysis of tool-mass-acceleration effects onto sub-aperture computer controlled polishing (CCP)
Analysis of tool-mass-acceleration effects onto sub-aperture computer controlled polishing (CCP)
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工具质量加速度对子孔径计算机控制抛光 (CCP) 的影响分析
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Faehnle O
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Faehnle O
大透镜和棱镜
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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作者：
R. Bingham;D. Walker
通讯作者：
D. Walker
用于制造复杂形状微光学器件的磨料射流抛光方法
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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作者：
O. Faehnle
通讯作者：
O. Faehnle