Adsorption Behavior of (CH_3)_2S on sputtered and annealed Rh(100) surface by AFM, XPS and NEXAFS
Adsorption Behavior of (CH_3)_2S on sputtered and annealed Rh(100) surface by AFM, XPS and NEXAFS
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AFM、XPS 和 NEXAFS 溅射退火 Rh(100) 表面上 (CH_3)_2S 的吸附行为
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Yagi et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T.Nomoto;S.Yagi et al.
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通讯作者：
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通讯作者：
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