Fabrication micropyramid structures by maskless grayscale lithography
Fabrication micropyramid structures by maskless grayscale lithography
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通过无掩模灰度光刻制造微金字塔结构
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Osamu Niwa and Masaya Miyazaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Wataru Iwasaki;Mizuki Ryu;Ramachandra Rao Sathuluri;Ryoji Kurita;Osamu Niwa and Masaya Miyazaki
使用新型光致抗蚀剂将深灰度光刻技术推向 100 µm 图案深度以上
DOI：
10.1117/12.2661526
发表时间：
2023
期刊：
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影响因子：
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作者：
C. Schuster;G. Ekindorf;A. Voigt;A. Schleunitz;G. Gruetzner
通讯作者：
G. Gruetzner