HAREM:High Aspect Ratio Etching and Metallization
HAREM:High Aspect Ratio Etching and Metallization
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HAREM：高深宽比蚀刻和金属化
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. Fuiita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E.Sarajlic;C. Yamahata;M. Cordero;D. Collard;H. Fuiita
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用于 DNA 分子操作和表征的可调节间隙硅纳米镊子
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Proceedings of 2006 International Conference on Microtechnologies in Medicine and Biology
影响因子：
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作者：
C.Yamahata;T.Takekawa;K.Ayano;M.Hosogi;M.Kumemura;B.Legrand;D.Collard;G.Hashiguchi;H.Fujita
通讯作者：
H.Fujita
适用于高深宽比、SOI 惯性仪器的嵌入式互连和电气隔离
DOI：
10.1109/sensor.1997.613732
发表时间：
1997
期刊：
Proceedings of International Solid State Sensors and Actuators Conference (Transducers '97)
影响因子：
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作者：
T. Brosnihan;J. M. Bustillo;A. Pisano;R. Howe
通讯作者：
R. Howe
硅纳米镊子揭示 DNA 束的电气和机械特性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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作者：
C.Yamahata;T. Takekawa;M. Kumemura;M. Hosogi;G. Hashiguchi;D. Collardand H. Fujita
通讯作者：
D. Collardand H. Fujita
硅纳洛镊子：分子实验的新型生物物理工具
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
C.Yamahata;D. Collard;A. Domenget;M. Hosogi;M. Kumemura;G. Hashiguchi;H. Fujita
通讯作者：
H. Fujita