Adsorption potentials and film growths of ^4He in nanometer pores of FSM-16 (2.8 nm) and HMM-2 (2.7 nm)
Adsorption potentials and film growths of ^4He in nanometer pores of FSM-16 (2.8 nm) and HMM-2 (2.7 nm)
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FSM-16 (2.8 nm) 和 HMM-2 (2.7 nm) 纳米孔中 ^4He 的吸附势和薄膜生长
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发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
N.Wada
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
R.Toda;J.Taniguchi;R.Asano;T.Matsushita;N.Wada
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影响因子:
8.6
作者:
D. Finotello;K. A. Gillis;Apollo P. Y. Wong;M. H. W. Chan
通讯作者:
M. H. W. Chan
影响因子:
2.8
作者:
S. Murphy;J. Reppy
通讯作者:
J. Reppy
影响因子:
3.7
作者:
H. Ikegami;T. Okuno;Y. Yamato;J. Taniguchi;N. Wada;S. Inagaki;Y. Fukushima
通讯作者:
Y. Fukushima
影响因子:
8.6
作者:
Greywall;Busch
通讯作者:
Busch
DOI:
--
发表时间:
2003
期刊:
Physica B 329-333
影响因子:
--
作者:
R.Toda;T.Yamada;J.Taniguchi;T.Matsushita;N.Wada
通讯作者:
N.Wada