Adsorption potentials and film growths of ^4He in nanometer pores of FSM-16 (2.8 nm) and HMM-2 (2.7 nm)

Adsorption potentials and film growths of ^4He in nanometer pores of FSM-16 (2.8 nm) and HMM-2 (2.7 nm)
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FSM-16 (2.8 nm) 和 HMM-2 (2.7 nm) 纳米孔中 ^4He 的吸附势和薄膜生长

DOI:
--
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发表时间:
2005
期刊:
J.Low Temp.Phys. 138
影响因子:
--
通讯作者:
N.Wada
N.Wada
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
R.Toda;J.Taniguchi;R.Asano;T.Matsushita;N.Wada

文献摘要

参考文献

被引文献

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通讯作者: N.Wada