Crystal growth of silicon thin films on glass by excimer laser annealing : A molecular-dynamics study

Crystal growth of silicon thin films on glass by excimer laser annealing : A molecular-dynamics study
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通过准分子激光退火在玻璃上生长硅薄膜：分子动力学研究

DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 45(2006年発行予定)
影响因子：
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通讯作者：
T.Warabisako
T.Warabisako
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
S.Munetoh;T.Kuranaga;B.M.Lee;T.Motooka;T.Endo;T.Warabisako

文献摘要

参考文献

被引文献

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发表时间： 1986
期刊： Applied Physics Letters
影响因子： 4
作者：
D. Lowndes;G. Jellison;S. Pennycook;S. Withrow;D. N. Mashburn
通讯作者： D. N. Mashburn