Quantitative evaluation of SiO_2/Si interfaces using high-resolution high-angle annular dark field scanning transmission electron microscopy.
Quantitative evaluation of SiO_2/Si interfaces using high-resolution high-angle annular dark field scanning transmission electron microscopy.
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使用高分辨率高角度环形暗场扫描透射电子显微镜定量评估 SiO_2/Si 界面。
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
橋本巖
中科院分区:
文献类型:
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作者:
中西伸登;菊地吉男;山崎貴司;奥西栄治;渡辺和人;橋本巖
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DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
Solid State Ionics 178
影响因子:
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作者:
上野俊吉;中嶋英雄;福田 功一郎;村上 英興;上野俊吉;福田 功一郎;橋本 忍;上野俊吉・中嶋英雄;H. Murakami;武田 はやみ;上野俊吉・林礼明・中嶋英雄;Kiminori Sato;岩田 知之
通讯作者:
岩田 知之
影响因子:
4
作者:
C. Dwyer;C. Maunders;C. Zheng;M. Weyland;P. Tiemeijer;J. Etheridge
通讯作者:
J. Etheridge
影响因子:
1.7
作者:
Abram, EJ;Sinclair, DC;West, AR
通讯作者:
West, AR
影响因子:
8.6
作者:
Bechade, Emilie;Masson, Olivier;Champion, Eric
通讯作者:
Champion, Eric
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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作者:
S. Pramana;T. Baikie;E. Kendrick;M. Schreyer;P. Slater;T. White
通讯作者:
T. White