Preparation of narrowed nanobridges down to down to 30nm with reduced degradation
Preparation of narrowed nanobridges down to down to 30nm with reduced degradation
复制标题
制备窄至 30nm 的纳米桥并减少降解
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
K. Kajino
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Kuratsu;M.;倉津将人;江崎俊朗;竹田拓馬;藍孝征;藍孝征;藍孝征;藍孝征;岡田恵次;倉津将人;熊谷祐;江崎俊朗;竹田拓馬;Keiji Okada;Masato Kuratsu;Masato Kuratsu;Keiji Okada;鈴木 修一;Masato Kuratsu;増田 有希;倉津 将人;藍 孝征;Masato Kuratsu;Masato Kuratsu;Kouhei Ohnishi;須佐繁;K. Fukaya;矢代大祐;矢代大祐;Kenji Natori;T. Kimura;名取賢二;Kenji Natori;名取賢二;K. Kajino
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影响因子:
1.8
作者:
M. Pedyash;D. Blank;J.H. de Muijnck;H. Rogalla
通讯作者:
H. Rogalla
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
IEEE Trans. Appl. Supercond. (印刷中)
影响因子:
--
作者:
Kuratsu;M.;倉津将人;江崎俊朗;竹田拓馬;藍孝征;藍孝征;藍孝征;藍孝征;岡田恵次;倉津将人;熊谷祐;江崎俊朗;竹田拓馬;Keiji Okada;Masato Kuratsu;Masato Kuratsu;Keiji Okada;鈴木 修一;Masato Kuratsu;増田 有希;倉津 将人;藍 孝征;Masato Kuratsu;Masato Kuratsu;Kouhei Ohnishi;須佐繁;K. Fukaya;矢代大祐;矢代大祐;Kenji Natori;T. Kimura
通讯作者:
T. Kimura
影响因子:
1.5
作者:
Y. Doda;I. Kawayama;H. Murakami;M. Tonouchi
通讯作者:
M. Tonouchi
影响因子:
1.5
作者:
H. Andoh;M. Kusunoki;A. Fujimaki;H. Hayakawa
通讯作者:
H. Hayakawa
影响因子:
1.8
作者:
L. Hao;J. Macfarlane;S. Lam;C. Foley;P. Josephs;J. Gallop
通讯作者:
J. Gallop