Influence of silicides formation on microstructure and magnetic properties of FePt thin films
Influence of silicides formation on microstructure and magnetic properties of FePt thin films
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硅化物形成对FePt薄膜微观结构和磁性能的影响
DOI：
10.1088/0022-3727/41/23/235003
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发表时间：
2008-12
期刊：
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--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
采用磁控溅射法在Si衬底上制备了具有和不具有B4C底层的FePt多层膜，并在真空中退火。实验结果表明，在没有B4 C底层的情况下，随着退火温度的升高，金属原子（Fe原子占大多数）将通过Si上的原生SiO2层扩散到衬底中。在较高的退火温度下硅化物的形成导致了介电常数的急剧下降。由于B4C底层的FePt膜的有效分离，当它们在升高的温度下退火时，不存在不寻常的矫顽力降低。由于B_4C底层的存在和更充分的互扩散，随着FePt层数的增加，薄膜的矫顽力逐渐增加到8.1kOe。
FePt multilayer films were prepared by magnetron sputtering on a Si substrate, both with and without a B4C underlayer, and subsequently annealed in vacuum. Experimental results suggest that the metal atoms (Fe atoms are in the majority) will diffuse through the native SiO2 layer on Si and then into the substrate with an increase in annealing temperature in the case without a B4C underlayer. The formation of silicides at a high annealing temperature leads to a sharp decrease in coercivity. Due to the effective separation of FePt films by B4C underlayers, the unusual decrease in coercivity is absent when they are annealed at an elevated temperature. The existence of the B4C underlayer and much more sufficient interdiffusion induces the coercivity to increase gradually to 8.1 kOe with the increase in the number of FePt layers.
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影响因子：
1.8
作者：
K. Kavanagh;M. Reuter;R. Tromp
通讯作者：
K. Kavanagh;M. Reuter;R. Tromp
影响因子：
3.2
作者：
B. Yao;R. Petrova;R. Vanfleet;K. Coffey
通讯作者：
B. Yao;R. Petrova;R. Vanfleet;K. Coffey
影响因子：
4
作者：
T. Shima;K. Takanashi;Y. Takahashi;K. Hono
通讯作者：
T. Shima;K. Takanashi;Y. Takahashi;K. Hono
DOI：
10.1103/physrevb.48.4364
发表时间：
1993-05
期刊：
Physical review. B, Condensed matter
影响因子：
--
作者：
Maeder;von Känel H;Baldereschi
通讯作者：
Maeder;von Känel H;Baldereschi
影响因子：
3.2
作者：
Kazuhisa Sato;Takenori Kajiwara;M. Fujiyoshi;M. Ishimaru;Y. Hirotsu;T. Shinohara
通讯作者：
Kazuhisa Sato;Takenori Kajiwara;M. Fujiyoshi;M. Ishimaru;Y. Hirotsu;T. Shinohara