Preparation of LiMn_2O_4 films using sputtering process
Preparation of LiMn_2O_4 films using sputtering process
复制标题
溅射法制备LiMn_2O_4薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Hosokawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Isai;K. Nakamura;Y. Chonan;T. Hosokawa
氧化学吸附对喷雾热解法制备氧化锌薄膜电导率的影响
DOI：
10.1016/0955-2219(91)90061-4
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
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作者：
F. Caillaud;Agnès Smith;J. Baumard
通讯作者：
J. Baumard
影响因子：
1.6
作者：
Choudhary, Sumita;Sarma, J. V. N.;Gangopadhyay, Subhashis
通讯作者：
Gangopadhyay, Subhashis