Inhomogeneous Decomposition of Ultrathin Oxide Fims on Si(100): Application of Avrami Kinetics to Thermal Desoration Spectra
Inhomogeneous Decomposition of Ultrathin Oxide Fims on Si(100): Application of Avrami Kinetics to Thermal Desoration Spectra
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Si(100) 上超薄氧化膜的不均匀分解：Avrami 动力学在热解离谱中的应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y. Sakiyama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
I. Kinefuchi;S. Takagi;Y. Matsumoto;H. Yamaguchi;Y. Sakiyama
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