Temperature Dependent Epitaxial Growth of Ferromagnetic Silicide Fe_3Si on Ge substrate
Temperature Dependent Epitaxial Growth of Ferromagnetic Silicide Fe_3Si on Ge substrate
复制标题
Ge衬底上铁磁性硅化物Fe_3Si的温度依赖性外延生长
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ueda;et. al.
硅基异质结构分子束外延及其在新型器件中的应用
影响因子：
1.5
作者：
M. Miyao;K. Nakagawa
通讯作者：
K. Nakagawa