Electronic structure of 3d^1 configuration vanadium oxides studied by soft x-ray and hard x-ray photoemission sectroscopy
Electronic structure of 3d^1 configuration vanadium oxides studied by soft x-ray and hard x-ray photoemission sectroscopy
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软X射线和硬X射线光电发射光谱研究3d^1构型钒氧化物的电子结构
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ritsuko Eguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoda;K.;Ropert-Coudert;Y.;Ritsuko Eguchi;Ritsuko Eguchi;Ritsuko Eguchi;Ritsuko Eguchi;Ritsuko Eguchi
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影响因子：
8.6
作者：
INOUE, IH;HASE, I;NISHIHARA, Y
通讯作者：
NISHIHARA, Y
影响因子：
8.6
作者：
Horiba, K;Taguchi, M;Shin, S
通讯作者：
Shin, S
SPring-8 BL17SU 与激光分子束外延相结合的高分辨率角分辨光电发射光谱仪
DOI：
10.1016/j.elspec.2005.01.211
发表时间：
2005
影响因子：
1.9
作者：
K. Horiba;N. Kamakura;K. Yamamoto;K. Kobayashi;Shik Shin
通讯作者：
Shik Shin
影响因子：
1.8
作者：
N. Kamakura;M. Taguchi;A. Chainani;Y. Takata;K. Horiba;K. Yamamoto;K. Tamasaku;Y. Nishino;D. Miwa;E. Ikenaga;M. Awaji;A. Takeuchi;H. Ohashi;Y. Senba;H. Namatame;M. Taniguchi;T. Ishikawa;Keisuke L. I. Kobayashi;Shik Shin
通讯作者：
N. Kamakura;M. Taguchi;A. Chainani;Y. Takata;K. Horiba;K. Yamamoto;K. Tamasaku;Y. Nishino;D. Miwa;E. Ikenaga;M. Awaji;A. Takeuchi;H. Ohashi;Y. Senba;H. Namatame;M. Taniguchi;T. Ishikawa;Keisuke L. I. Kobayashi;Shik Shin
影响因子：
3.7
作者：
Liebsch, A;Ishida, H;Bihlmayer, G
通讯作者：
Bihlmayer, G