High-pressure Raman study of nano-channel materials: BaAl_2Si_2 and BaSi_6

High-pressure Raman study of nano-channel materials: BaAl_2Si_2 and BaSi_6
复制标题

纳米通道材料BaAl_2Si_2和BaSi_6的高压拉曼研究

DOI:
--
复制
发表时间:
2008
期刊:
J. Phys. Conf. Series (印刷中)
影响因子:
--
通讯作者:
et. al.
et. al.
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Y. Narita;et. al.

文献摘要

参考文献

相似文献

DOI: 10.1103/physrevlett.83.5290
发表时间: 1999-12
影响因子: 8.6
作者:
Alfonso San-Miguel;P. Kéghélian;X. Blase;P. Mélinon;A. Pérez;J. Itié;A. Polian;E. Reny;C. Cros;M. Pouchard
通讯作者: Alfonso San-Miguel;P. Kéghélian;X. Blase;P. Mélinon;A. Pérez;J. Itié;A. Polian;E. Reny;C. Cros;M. Pouchard
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: High Pressure Research 24
影响因子: --
作者:
M.Hoshino;S.Aoki;高橋正彦;S.Yamanaka
通讯作者: S.Yamanaka
DOI: 10.1515/znb-2006-1205
发表时间: 2006-12
期刊: Zeitschrift für Naturforschung B
影响因子: --
作者:
S. Yamanaka;S. Maekawa
通讯作者: S. Yamanaka;S. Maekawa
Ba 掺杂硅包合物 Ba_<24>Si_<100> 高达 27 GPa 的高压拉曼研究
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Physical Review B 71・9(印刷中)
影响因子: --
作者:
H.Shimizu;T.Kume et al.
通讯作者: T.Kume et al.
DOI: 10.1209/epl/i2004-10387-x
发表时间: 2005-02
期刊: EPL
影响因子: 1.8
作者:
A. Miguel;A. Merlen;P. Toulemonde;T. Kume;S. Floch;A. Aouizerat;S. Pascarelli;G. Aquilanti;O. Mathon;T. Bihan;J. Itié;S. Yamanaka
通讯作者: A. Miguel;A. Merlen;P. Toulemonde;T. Kume;S. Floch;A. Aouizerat;S. Pascarelli;G. Aquilanti;O. Mathon;T. Bihan;J. Itié;S. Yamanaka