Thermal evaporation and x-ray photostability of dodecyl-passivated silicon nanoparticles
Thermal evaporation and x-ray photostability of dodecyl-passivated silicon nanoparticles
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十二烷基钝化硅纳米颗粒的热蒸发和 X 射线光稳定性
DOI：
10.1088/0022-3727/45/35/355303
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Coxon P
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Coxon P
用X射线光电子能谱(XPS)和X射线吸收光谱(XPS)研究了胶束还原一锅法制备的直径为6.5 nm的十二烷基纳米硅(SiNPs)薄膜的组成。热稳定性测试表明，SiNPs在∼240C下经历热脱附，由于这种情况下纳米粒子系统的尺寸较大，因此温度高于由较短碳氢层覆盖的SiNPs。在超高压环境中，SiNPs的悬浮液可以完好无损地蒸发，碳氢化合物钝化层被保存下来，并形成薄膜，并用显微成像FTIR光谱进行可视化。研究了厚膜SiNP膜中盖层在140 eV光子长时间(高达2160个S)辐照下的稳定性，其中XPS谱显示钝化层的击穿使得下面的硅芯可以进行后续的氧化。
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and x-ray absorption spectroscopy have been used to study the makeup of thin films of 6.5 nm diameter dodecyl-capped silicon nanoparticles (SiNPs) formed in a one-pot synthesis method of micelle reduction. Thermostability measurements show the SiNPs undergo thermal desorption at∼ 240 C, a higher temperature than for SiNPs capped by shorter hydrocarbon layers owing to the greater size of the nanoparticle system in this case. Suspensions of SiNPs are found to evaporate in a UHV environment intact with the hydrocarbon passivating layer preserved and form thin films which are visualized with microimaging FTIR spectroscopy. The stability of the capping layer within thick SiNP films under extended exposure (up to 2160 s) to 140 eV photons has been examined where XPS spectra show the breakdown of the passivating layer allowing the underlying silicon core to undergo subsequent oxidation.
DOI：
10.1088/0022-3727/44/49/495301
发表时间：
2011-12
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
--
作者：
P. Coxon;Qi Wang;Y. Chao
通讯作者：
P. Coxon;Qi Wang;Y. Chao
基于硅纳米晶体的太阳能电池：形态特性和传导现象
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
2010 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
影响因子：
--
作者：
K. Surana;H. Lepage;D. Bellet;G. Carval;Mathieu Baudrit;Philippe Thony;Pierre Mur
通讯作者：
Pierre Mur