Parallel deposition of size-selected clusters: a novel technique for studying size-selectivity on the atomic scale.
Parallel deposition of size-selected clusters: a novel technique for studying size-selectivity on the atomic scale.
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尺寸选择簇的并行沉积：一种研究原子尺度尺寸选择性的新技术
DOI：
10.1039/c4cp00931b
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Gerd Ganteför
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yuan Luo;Hyun Ook Seo;Martin Beck;Sebastian Proch;Young Dok Kim;Gerd Ganteför
提出了一种称为“平行沉积”的新尺寸选择簇沉积技术。利用维恩滤波器将多尺寸 Aun 团簇的离子束在空间上分离成单独的团簇尺寸，并且根据原子尺寸空间分离的团簇同时沉积在 SiO2/Si(100) 基板上。 SiO2/Si(100) 基底上的平行沉积 Aun 团簇（n = 6、7 和 8）在暴露于原子氧气氛中时表现出奇偶氧化行为，证明了这种新技术在各个研究领域研究沉积团簇尺寸依赖性特性的潜力。
A new size-selected cluster deposition technique referred to as “parallel-deposition” is presented. An ion beam of multi-sized Aun clusters was spatially separated into individual cluster sizes by utilizing a Wien filter and the clusters spatially separated based on their atomic sizes were simultaneously deposited on a SiO2/Si(100) substrate. Parallel-deposited Aun clusters (n = 6, 7, and 8) on the SiO2/Si(100) substrate showed even–odd oxidation behaviour upon exposure to an atomic oxygen atmosphere, demonstrating the potential of this new technique to study the size-dependent properties of deposited clusters in various research fields.
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