Imaging by intensity interferometry of x-ray fluorescence at a compact x-ray free-electron laser
Imaging by intensity interferometry of x-ray fluorescence at a compact x-ray free-electron laser
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在紧凑型 X 射线自由电子激光器上通过 X 射线荧光强度干涉成像
DOI：
10.1103/physreva.104.023514
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发表时间：
2021
影响因子：
2.9
通讯作者：
Schmidt, Kevin E.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shevchuk, Andrew S.;Spence, John C.;Kirian, Richard A.;Graves, William S.;Schmidt, Kevin E.
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影响因子：
3.3
作者：
F. Trost;K. Ayyer;H. Chapman
通讯作者：
H. Chapman
走向光谱强度干涉测量
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
Georgiy Shoulga;E. Ribak
通讯作者：
E. Ribak
使用强度三重相关器的成像系统。
影响因子：
1.9
作者：
Takuso Sato;S. Wadaka;J. Yamamoto;Junichi Ishii
通讯作者：
Junichi Ishii
影响因子：
19.6
作者：
Schneider, Raimund;Mehringer, Thomas;Von Zanthier, Joachim
通讯作者：
Von Zanthier, Joachim
影响因子：
8.6
作者：
Classen, Anton;Waldmann, Felix;von Zanthier, Joachim
通讯作者：
von Zanthier, Joachim