Morphology-controlled fabrication of elliptical nanoring arrays based on facile colloidal lithography
Morphology-controlled fabrication of elliptical nanoring arrays based on facile colloidal lithography
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基于简易胶体光刻的椭圆纳米环阵列的形态控制制造
DOI：
10.1039/c2tc00302c
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发表时间：
2013-01
影响因子：
6.4
通讯作者：
Yang, Bai
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yu, Ye;Yu, Ye;Yang, Bai;Yang, Bai
在本文中，我们展示了一种用于制造形态控制的椭圆纳米环阵列（ERA）的简便改进的胶体光刻（CL）方法，该方法结合了模板引导的聚合物薄膜去湿和氧反应离子蚀刻。椭圆形模板是通过改进的微成型方法制造的，使用胶体纳米球阵列作为原始模板，用于引导聚合物薄膜的去湿以形成ERA。结果阵列的高度、长宽比和大小可以精确控制。此外，通过蚀刻底层功能材料或将功能材料混合到聚合物薄膜中，还可以制造不同功能材料的椭圆环阵列，例如金ERA、硅ERA、铁磁Fe-Ni复合ERA、Fe3O4 ERA和荧光ERA。所制备的功能ERA的一个潜在应用是为不对称图案化表面阵列的各向异性特性的基础研究以及基于各向异性表面图案的器件的制造提供模型，以用于形状相关的光学和磁性器件的潜在应用。
In this paper, we demonstrate a facile modified colloidal lithography (CL) method for the fabrication of morphology-controlled elliptical nanoring arrays (ERAs), which combines template-guided dewetting of polymer film and oxygen reactive ion etching. The elliptical templates were fabricated via a modified micromolding method using colloidal nanosphere arrays as the original templates, which were used to guide the dewetting of the polymer film to form ERAs. The height, aspect ratio and size of the resulting arrays could be controlled exactly. Moreover, through etching the underlying functional materials or mixing functional materials into the polymer film, elliptical ring arrays of different functional materials could also be fabricated, such as gold ERAs, silicon ERAs, ferromagnetic Fe–Ni composite ERAs, Fe3O4 ERAs and fluorescent ERAs. A potential application of the as-prepared functional ERAs is to provide a model for the fundamental research of anisotropic properties of the asymmetric patterned surface arrays and the fabrication of anisotropic surface pattern based devices for potential applications of shape-dependent optical and magnetic devices.
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