High-Power EUV Source For Lithography Using a Tin Target
High-Power EUV Source For Lithography Using a Tin Target
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使用锡靶进行光刻的高功率 EUV 源
DOI：
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发表时间：
2005
影响因子：
0.8
通讯作者：
C.H.ZHANG et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C.H.Zhang;S.Katsuki;H.Imamura;H.Horita;T.Namihira;H.Akiyama;C.H.ZHANG et al.
用于 EUV 光刻的基于气体放电的辐射源
影响因子：
2.3
作者：
R. Lebert;K. Bergmann;G. Schriever;W. Neff
通讯作者：
W. Neff
电流分布的多样性开辟了环形等离子体的新世界 - 平衡和约束研究的进展 - 4. 螺旋系统中等离子体电流定位的多样性和电流驱动实验
DOI：
10.1585/jspf.79.1138
发表时间：
2003
期刊：
Journal of Plasma and Fusion Research
影响因子：
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作者：
雅之 横山;吉朗 成嶋;清政 渡邊
通讯作者：
清政 渡邊