Masked plasma oxidation: simple micropatterning of extracellular matrix in a closed microchamber array
Masked plasma oxidation: simple micropatterning of extracellular matrix in a closed microchamber array
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掩模等离子体氧化：封闭微室阵列中细胞外基质的简单微图案化
DOI：
10.1039/c3ra42976h
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
3.9
通讯作者：
K. Ohnuma and T. Kanamori
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hattori;K.;R. Yoshimitsu;S. Sugiura;A. Maruyama;K. Ohnuma and T. Kanamori
我们提出了一个简单的微图案化过程，以创建一个封闭的微室阵列与细胞外基质（ECM）。该过程包括用ECM均匀涂覆阵列，通过物理掩蔽的等离子体氧化进行微图案化分解，以及随后的密封。这些过程足够简单，能够按比例放大生产涂覆有ECM的微室阵列。
We present a simple micropatterning process to create a closed microchamber array with an extracellular matrix (ECM). The process includes homogeneous coating of the array with the ECM, micropatterned decomposition by plasma oxidation with physical masking, and subsequent sealing. These processes are sufficiently simple to enable scaled-up production of microchamber arrays coated with ECMs.
影响因子：
3.8
作者：
Sugiura, Shinji;Edahiro, Jun-ichi;Kanamori, Toshiyuki
通讯作者：
Kanamori, Toshiyuki
用于调节培养神经元细胞生长的基于微印记的微机械加工
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
JSME International Journal Series C Mechanical Systems, Machine Elements and Manufacturing 47・4
影响因子：
--
作者：
梶 弘和ら;梶 弘和ら;H.Kaji et al.;H.Kaji et al.;Y.Takii et al.
通讯作者：
Y.Takii et al.